Новая физика и энергетика

     Актуальні технічні новини, тому, що EUV-літографія — це критично важлива технологія, від якої залежить виробництво майже всіх найсучасніших комп'ютерних чипів у світі. ASML збільшила потужність джерела EUV-випромінювання у своїх літографічних установках із 600 до 1000 Вт. За оцінкою компанії, це дозволить до 2030 року збільшити випуск мікросхем приблизно на 50 % при одночасному зниженні собівартості виробництва. Нідерландська компанія ASML є єдиним у світі виробником комерційних систем EUV-літографії, що застосовуються для випуску передових чипів такими компаніями, як TSMC та Intel. Оновлення стосується ключового елемента установок — джерела випромінювання з довжиною хвилі 13,5 нм.   Продуктивність та ефективність Підвищення потужності безпосередньо збільшує продуктивність обладнання: До кінця десятиліття одна EUV-система зможе обробляти до 330 кремнієвих пластин на годину (проти нинішніх 220). Потужніше випромінювання скорочує час експозиції. ...

0,2 нм створено. Закон Мура врятований. Фтотніка 100 ГГц почала працювати. Єдина теорія фізики постулює, що електричний струм, магнітне поле, випромінювання всіх діапазонів і світло є потоками електронів, я захоплююся відкриттям Базієва. Мені не потрібна статистика, думка кожного. Пам"ятайте Сократа - «більшість завжди помиляється». Боротьба триває, у відео Анастасія не називає багато імен та організацій. Досить PROTONICS21, доктора Ашке і фінансів і сучасних проектів з фотоніки. Але події не скасовують розробку XUVE 1nm. Фотоніка підказала правильний напрямок, і технологію потрібно створити, в сотні разів (в грошовому еквіваленті) простіше, ніж сучасні машини ASML 13,5 нм за 500...350 мільйонів доларів. Залишилося відпрацювати технологію справжнього електролазера. І треба поспішати, мені подобається мова Паскаля, її потрібно рятувати. Незабаром трійкова система намагається  замінить двійкову систему. Чекаємо на слово ASML! У шанувальників ЄТФ миттевий перепочинок. Виправдалося...