Китай представив ключовий елемент для EUV-літографії
На Міжнародній промисловій виставці у Шанхаї китайський стартап Langdao Silex представив власне джерело EUV-випромінювання. itc.ua 16.10.2026 Установка отримала назву FlintNano LPP-OXXO. В компанії заявляють, що як ключовий елемент EUV-літографії, розробка отримала найсучасніші компоненти внаслідок незалежних досліджень та розробок , а частка китайського виробництва складає близько 90%. Прототип Langdao Silex використовує технологію генерованої лазером плазми (LPP) для отримання EUV-випромінювання. Аналогічний підхід використовує ASML та інші виробники. Технічні характеристики китайського прототипа вказують потужність лазера у 1000 Вт, та частоту повторення 1–20 кГц, а також коефіцієнт перетворення у понад 2%. Потужність EUV-випромінювання складає 15 Вт або вище, а час безперервної роботи перевищує 100 годин. Розмір плазми складає 60 мкм, а стабільність — 3 (середньоквадратичне значення), а стабільність енергії — близько 5%...