Публікації

Показано дописи з міткою "ASML"

Будова лазера на вільних електронах FEL

Зображення
     Експериментальний компактний лінійний прискорювач із рекуперацією енергії в KEK використовує більшу частину енергії електронів на зворотному шляху для прискорення нової групи електронів.       Літографія на базі лазерів на вільних електронах (FEL, Free Electron Laser) — це перспективна альтернатива існуючій технології екстремального ультрафіолету (EUV), покликана подолати фізичні обмеження у виробництві мікросхем за стандартами менше 2–3 нанометрів . В основі цього підходу лежить використання прискорювачів частинок замість традиційного випаровування крапель олова лазером. Сучасний метод EUV (від компанії ASML) працює за схемою LPP (Laser-Produced Plasma) : потужний CO₂-лазер вражає краплі рідкого олова 50 тисяч разів на секунду, створюючи плазму, яка випромінює потрібне світло довжиною хвилі 13,5 нм. Цей метод має жорстке обмеження потужності (близько 250–500 Вт), утворює багато забруднень (пари олова) і витрачає колосальну кількість енергії. F...

Установка для запуску в роботу лазера, ККД якого 90%

Зображення
  Електричний струм — це впорядкований вихровий рух електрино навколо провідника, у якому траєкторія кожного електрино представлена гвинтовою лінією із входом у тіло провідника або без входу в нього. Встановлено раніше не відому структуру лазерного променя, що формується за допомогою накачування джерелами світла, що складається з вільного світлового поля негативного знака, навколо якого і вздовж нього вихровим потоком рухаються електрино, організовані в вихрові пакети, абсолютно аналогічно структурі електричного струму по провіднику О тже електричний с трум і випромінювання лазера повністю споріднені потоки. Залишається об’єднати ці потоки. Тобто, потрібне малопотужне лазерне випромінювання для утворення I ) осьового електронного поля вздовж якого направити потужне II ) осьове електронне поле постійного електричного струму. Абсолютно споріднені потоки об’єднаються, утворюючи потік електрино потужністю електричного струму II). ККД процесу об’єднання ~9...

ASML, випущено перший великосерійний продукт у галузі логіки по технології EXE High NA EUV

Зображення
  Велдховен, Нідерланди, 15 липня 2026 р.   Компанія Intel Foundry розпочала великомасштабне виробництво підгрупи процесорів Intel® Core™ Ultra Series 3, що отримали кодову назву Panther Lake, з використанням технології EXE High NA EUV від ASML. В Орегоні деякі шари Intel 18A проходять подвійну кваліфікацію на високоапертурному EUV-літографічному обладнанні, що дозволяє постачати продукцію замовникам із виходом придатних виробів, що відповідає платформі NXE. Intel та ASML продовжують тісно співпрацювати в питаннях готовності до використання високоапертурного EUV-літографічного покриття з можливістю його інтеграції в майбутні технологічні процеси залежно від потреб замовника. Компанія ASML Holding NV (ASML) сьогодні повідомила, що Intel Foundry використовує технологію High NA EUV від ASML на технологічному процесі Intel 18A для виробництва частини процесорів Intel® Core™ Ultra Series 3. Це досягнення знаменує собою важливий крок у демонстрац...

Генеральний директор ASML Крістоф Фуке підписав авторську статтю разом з європейськими технологічними компаніями

Зображення
  Оголошення - Велдховен, Нідерланди, 5 травня 2026 року Разом із шістьма іншими технологічними компаніями, що штаб-квартирами в Європі, ASML опублікувала статтю з думкою в національних газетах восьми країн, закликаючи уряди по всій Європі до швидких дій для забезпечення умов для глобального технологічного лідерства в Європі. Європа щодня втрачає глобальну конкурентоспроможність. Ми стикаємося з кризою, яку значною мірою створили самі, і тому можемо її подолати. Це не лише економічна проблема; вона загрожує нашій соціальній згуртованості та випробовує самі основи нашого майбутнього процвітання та технологічного суверенітету. У період безпрецедентних геополітичних та технологічних змін рішення, прийняті в найближчі місяці та роки, визначатимуть, чи зможе Європа конкурувати та процвітати в наступні десятиліття. Як генеральні директори технологічних компаній, що працюють у центрі сучасної трансформації, ми на власні очі бачимо, як з рекордною швидкістю формується наступна...

Тензорні процесори TPU

Зображення
  Тензорні процесори TPU створюють технології обчислень вищі, ніж дозволяють чіпи ASML (13,5 нм). Google і Facebook, Microsoft, Twitter розробляють власні тензорні процесори (TPU) на основі мікросхеми ASIC. Саме технологія такого чіпа від Google підняла швидість дії чіпа вдвічі, тобто до рівня 7 нм. Він вже інтегрований в основні продукти Google, включно з Translate, Photos, Search Assistant і Gmail. Простий у використанні хмарний TPU дає можливість масштабувати завдання всім розробникам зі штучного інтелекту (ШІ). TPU належить до класу нейронних процесорів (NPU) - мікросхем, призначених для апаратного прискорення роботи алгоритмів штучних нейронних мереж, що вимагають великих обчислювальних ресурсів. На передньому краї розробок мікропроцесорної техніки чипи для ШІ. За оцінками світовий ринок цих пристроїв сягнув десятків млрд доларів. Щоб не допустити лідерства Китаю, США обмежують експорт комплектуючих у цю країну. ASIC розшифровується як Application-Specific Integrated Circ...

Хай живе закон Мура

Зображення
   Базієв прискорює зміну наукової термінології. Розрахунок енергії EUV за єдиною теорією фізики Базієва і нова парадигма випромінювання на боці ASML. Жодне випромінювання, починаючи від радіочастот и закінчуючи γ-променями, не є електромагнітною хвилею. Будь-який промінь це електродинамічна система, що складається з осьового електричного променя від’ємного знаку и системи електрино з додатковим зарядом, але без всілякої хвилі. Електрино в промені виконує роль фотона. Момент імпульсу фотона (електрино), (постійна Герцу), або секундна енергія променя природного світу,  Ɛ i =ħ∙ν і , Дж, правдиве рівняння енергії природного проміня світла. ħ=h/(4π/3)1/3 =4,11060869202∙10 -34 кг∙м 2 /c=const.  У формулі Планка, Ɛi =ħ∙νі, у якій значення енергії збільшено у n=h/ħ=1,611991944 разів. Формула залежності між кроком фотона в промені (в старій термінології довжиною хвилі) і частотою фотонів по променю по Базієву ν і = μ/ λ i 2 , де μ=119,916984м 2 /с=const,  μ - ...

ASML ультрафіолетовий гетьман

Зображення
  Сьогодні основою економіки є мікрочіпи. Майже у всіх електронних пристроях присутній принаймні один напівпровідниковий чип: від автомобілів і мобільних телефонів до пральних машин і літаків. Більша частина світового ВВП виробляється пристроями, що використовують напівпровідники. Через свою повсюдну поширеність і корисність вони також є стратегічно важливими: США і Китай прагнуть контролювати поставки та отримати перевагу одного над іншим. Існує кілька основних компаній-виробників мікрочипів. Є Samsung у Південній Кореї, TSMC на Тайвані, Huawei у Китаї, а також Intel і Texas Instruments у США. Усі вони виробляють чіпи на власних фабриках. Але машини, які вони використовують для виробництва, виробляє переважно одна компанія - голландська Advanced Semiconductor Materials Lithography (ASML). Технологія, яка уможливлює виробництво всіх передових чіпів, називається літографією в крайньому ультрафіолеті (EUV). Одна EUV-машина коштує понад 350 мільонів доларів. Вона спирається на ...