ASML, випущено перший великосерійний продукт у галузі логіки по технології EXE High NA EUV

 

• Велдховен, Нідерланди, 15 липня 2026 р. 

  Компанія Intel Foundry розпочала великомасштабне виробництво підгрупи процесорів Intel® Core™ Ultra Series 3, що отримали кодову назву Panther Lake, з використанням технології EXE High NA EUV від ASML.

  В Орегоні деякі шари Intel 18A проходять подвійну кваліфікацію на високоапертурному EUV-літографічному обладнанні, що дозволяє постачати продукцію замовникам із виходом придатних виробів, що відповідає платформі NXE.

  Intel та ASML продовжують тісно співпрацювати в питаннях готовності до використання високоапертурного EUV-літографічного покриття з можливістю його інтеграції в майбутні технологічні процеси залежно від потреб замовника.

Компанія ASML Holding NV (ASML) сьогодні повідомила, що Intel Foundry використовує технологію High NA EUV від ASML на технологічному процесі Intel 18A для виробництва частини процесорів Intel® Core™ Ultra Series 3. Це досягнення знаменує собою важливий крок у демонстрації готовності до використання технології High NA EUV у виробничому середовищі.

ASML та Intel протягом десятиліть тісно співпрацюють з метою розвитку літографічних технологій та підтримки подальшого масштабування напівпровідникових пристроїв. Процес літографії в екстремальному ультрафіолетовому діапазоні з високою числовою апертурою (High NA EUV) є важливим наступним кроком у розвитку EUV-літографії, розробленим ASML для забезпечення більш точного формування малюнка в передових технологіях виробництва мікросхем.

Процесори Intel® Core™ Ultra Series 3, що отримали кодову назву Panther Lake, побудовані на базі технології Intel 18A. Використання високоапертурної EUV-літографії для формування певних шарів цих виробів надає компаніям ASML та Intel Foundry корисні дані для подальшого вдосконалення конфігурації системи, часу безвідмовної роботи та впровадження у виробництво. Це відкриває шлях до ширшого поширення технології та використання всіх її можливостей.

«Завдяки підвищенню роздільної здатності та покращенню контролю процесу впровадження EUV-літографії з високою числовою апертурою (High NA EUV) знаменує суттєвий крок вперед у напівпровідниковій літографії», — заявив Крістоф Фуке, президент і генеральний директор ASML. «Ми пишаємося тим, що відіграємо важливу роль у забезпеченні більш тонкого та щільного формування малюнка, що прискорить розвиток штучного інтелекту та інших перспективних технологій».

«Цей важливий етап відображає тісну технічну співпрацю між Intel та ASML і демонструє, як технологію High NA EUV можна інтегрувати у великомасштабне виробництво передових напівпровідникових виробів», — сказав Нага Чандрасекаран, виконавчий віце-президент та генеральний директор Intel Foundry. «Завдяки сертифікації технології High NA EUV на окремих шарах продукції Intel 18A наш існуючий парк обладнання забезпечує клієнтам підвищення продуктивності, тоді як ми розробляємо майбутні варіанти для досягнення передової продуктивності, щільності та гнучкості виробництва на майбутніх технологічних вузлах».

У 2024 році Intel та ASML завершили інтеграцію першої в галузі комерційної літографічної системи з високим числом апертури (High NA EUV) на науково-дослідному майданчику компанії в Хіллсборо, штат Орегон. Intel Foundry також стала першою компанією, яка встановила та пройшла приймальні випробування системи другого покоління TWINSCAN EXE:5200B, яка є вдосконаленою версією TWINSCAN EXE:5000 і підвищує точність виведення та суміщення, а також має покращене джерело світла. Завдяки цьому оголошенню Intel Foundry стала першою в галузі, хто почав постачати у великих обсягах логічну продукцію з використанням технології High NA EUV.

ASML створила неймовірний літограф!!! Це вінець до казок діда Альберта.
Нові технології стоять на низькому старті https://btg18.blogspot.com/2025/09/blog-post_24.html, це мета цього блоку.