Китай представив ключовий елемент для EUV-літографії

  

 

На Міжнародній промисловій виставці у Шанхаї китайський стартап Langdao Silex представив власне джерело EUV-випромінювання.itc.ua 16.10.2026

Установка отримала назву FlintNano LPP-OXXO. В компанії заявляють, що як ключовий елемент EUV-літографії, розробка отримала найсучасніші компоненти внаслідок незалежних досліджень та розробок, а частка китайського виробництва складає близько 90%. 

Прототип Langdao Silex використовує технологію генерованої лазером плазми (LPP) для отримання EUV-випромінювання. Аналогічний підхід використовує ASML та інші виробники. Технічні характеристики китайського прототипа вказують потужність лазера у 1000 Вт, та частоту повторення 1–20 кГц, а також коефіцієнт перетворення у понад 2%.

Потужність EUV-випромінювання складає 15 Вт або вище, а час безперервної роботи перевищує 100 годин. Розмір плазми складає 60 мкм, а стабільність — 3 (середньоквадратичне значення), а стабільність енергії — близько 5%.

В Langdao Silex заявляють, що наразі система працює на рівні, достатньому для тестування пластин. В компанії прогнозують, що до початку великого масштабного комерційного виробництва знадобиться від 3 до 5 років і це за найоптимістичнішим прогнозом. 

Окрім джерела EUV-випромінювання для завершення збирання власн

ої установки для EUV-літографії знадобиться надточна оптика, підставки для пластин та складні технології системної інтеграції. Обладнання ASML для EUV-літографії складається з сотень тисяч компонентів, які виготовляють та постачають близько 800 партнерів.